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[生产制造] 已压塞产品的密封性考察问题

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药徒
发表于 2022-10-13 10:49:19 | 显示全部楼层 |阅读模式

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本帖最后由 一叶舟. 于 2022-10-13 10:51 编辑

如果轧盖操作选择在C/D级背景下的A级送风保护环境下进行,生产过程中如何考察已压塞产品的密封性?胶塞高度检测检测胶塞移位到什么程度是可接受的。如果按上升1mm,考虑到胶塞西林瓶本身的公差,误剔废率是很多的,且胶塞高度传感器定位本身也存在一定误差。C+A的房间设计,压完塞轧盖前的产品的要求一定是完全密封的吗?

欧盟附录1 8.28  应在轧盖前剔除胶塞缺失或移位的西林瓶。应有经适当确认的自动化方法检测胶塞高度 这个怎么理解
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药士
发表于 2022-10-13 16:10:02 | 显示全部楼层

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@木木杨1  详情 回复 发表于 2022-10-14 08:41
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药徒
发表于 2022-10-13 16:12:41 | 显示全部楼层
压完塞轧盖前的产品的要求一定是完全密封的吗?
不是,是半密封
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宗师
发表于 2022-10-14 08:41:56 | 显示全部楼层
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药仙
发表于 2022-10-14 08:45:49 来自手机 | 显示全部楼层

只需要关注胶塞弹起来的就可以了
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宗师
发表于 2022-10-14 09:14:19 | 显示全部楼层
1.经过密封性验证的设备参数。只要设备参数没变,,剔除标准正常,那过来的产品就是密封性没有问题的。
2.压完塞轧盖前的产品,只能是满足密封性要求的产品,完全密封的是没有的。
3.不就是要求设备有异常剔除功能,需要识别到胶塞缺失或移位等情况。要求设备有检测胶塞高度的功能,异常高度的将会在剔除工位被剔除。
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药徒
 楼主| 发表于 2022-10-14 12:14:10 | 显示全部楼层
木木杨1 发表于 2022-10-14 08:45
只需要关注胶塞弹起来的就可以了

弹起来多少是不可接受的?
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药仙
发表于 2022-10-14 12:15:24 来自手机 | 显示全部楼层
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药徒
 楼主| 发表于 2022-10-14 12:15:57 | 显示全部楼层
余默 发表于 2022-10-14 09:14
1.经过密封性验证的设备参数。只要设备参数没变,,剔除标准正常,那过来的产品就是密封性没有问题的。
2. ...

怎样的剔除标准是正常的?
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药仙
发表于 2022-10-14 12:15:57 来自手机 | 显示全部楼层
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药生
发表于 2022-10-14 13:19:57 | 显示全部楼层
1、生产过程中考察压塞产品的密封性,你指的是轧盖前还是轧盖后,轧盖前,一般就是检测胶塞的高度。轧盖后呢,目前最适合的方法是检测RSF。
2、关于胶塞高度的检测,目前大部分开始采用摄像的方法,拍照的形式,以前老的方式是采用光电传感器,这个时候不能严格要求高度是1mm了。尺寸要求就要放宽松一点了,这个需要去做研究。
3、你这个问的就有问题,GMP附录1中已经说了,轧盖之前视为未完全密封。C+A的环境,这里的A是满足A级监控的动态要求,达不到静态要求,如果压塞不到位,会存在污染的风险。
4、胶塞的高度,移位等情况,这个情况的进C+A区域可能因为泄露造成污染,需要剔除掉。
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药徒
 楼主| 发表于 2022-10-16 10:58:33 | 显示全部楼层
117342780 发表于 2022-10-14 13:19
1、生产过程中考察压塞产品的密封性,你指的是轧盖前还是轧盖后,轧盖前,一般就是检测胶塞的高度。轧盖后 ...

感谢参与讨论回复!
2、关于胶塞高度的检测,目前大部分开始采用摄像的方法,拍照的形式,以前老的方式是采用光电传感器,这个时候不能严格要求高度是1mm了。尺寸要求就要放宽松一点了,这个需要去做研究。——想问的就是这个需要做研究的问题,但瓶子和胶塞最大公差已远远超1m m时,有大致方向吗
3、你这个问的就有问题,GMP附录1中已经说了,轧盖之前视为未完全密封。C+A的环境,这里的A是满足A级监控的动态要求,达不到静态要求,如果压塞不到位,会存在污染的风险。——-C+A轧盖间,您有遇到这种情况,都能满足A动态监测要求吗,比如粒子 ,GMP附录1备注的“轧盖之前视为未完全密封”是基于B+A背景吧
4、胶塞的高度,移位等情况,这个情况的进C+A区域可能因为泄露造成污染,需要剔除掉。——是的,肯定要剔除,关键是定这个剔除的标准,标准的确定得回溯到C+A背景下胶塞高度检测想达到的目的,是在线监测是否完全密封的话,摄像法就设定跳出密封面的尺寸为标准,光电传感器法考虑到包材的误差等情况已经无法实现监测每个胶塞是否完全密封的目的了。我在想目前行业内应该不是每一家C+A都是摄像法测试吧。所以主要是想了解讨论下,C+A背景下,轧盖前我们想达到的目的是啥,以及这个A级送风的粒子标准(GMP附录是至少A级区的静态要求)。

点评

1、你这个瓶子和胶塞最大公差远远超1mm,怎么理解?如果是瓶子和胶塞匹配的公差,这个问题你就要问你们研发了,前期是怎么做研究的。如果是压塞的原因,水针的话就要考虑灌装后加塞的工位的调整,如果是冻干就要考虑  详情 回复 发表于 2022-10-17 09:12
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药生
发表于 2022-10-17 09:12:31 | 显示全部楼层
本帖最后由 117342780 于 2022-10-17 09:15 编辑
一叶舟. 发表于 2022-10-16 10:58
感谢参与讨论回复!
2、关于胶塞高度的检测,目前大部分开始采用摄像的方法,拍照的形式,以前老的方式 ...

1、你这个瓶子和胶塞最大公差远远超1mm,怎么理解?如果是瓶子和胶塞匹配的公差,这个问题你就要问你们研发了,前期是怎么做研究的。如果是压塞的原因,水针的话就要考虑灌装后加塞的工位的调整,如果是冻干就要考虑在冻干箱中压塞的压力。
2、关于这方面的研究,首先胶塞和瓶子之间的密封是有三个位置的,一个是胶塞颈部与瓶子颈部的密封(下图1),一个是胶塞的冠部与瓶口的密封(下图3),还有一个胶塞冠部与颈部之间的位置与瓶口倒角的密封(下图2)。(图刷不出来,看第三个回帖的第一张图)有下图的这种研究(可以参考下Quantifying the Vial Capping Process Residual Seal Force and Container Closure Integrity)虽然不是研究胶塞高度,可以作为参考。(图刷不出来,看第三个回帖的第二张图)

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药生
发表于 2022-10-17 09:12:53 | 显示全部楼层
本帖最后由 117342780 于 2022-10-17 09:18 编辑

一个是只保留颈部,一个是保留冠部,结果是如果胶塞的颈部与瓶子的颈部匹配很好,那么泄露能够满足要求。但是需要注意一个问题,就是冻干胶塞是有缺口的,如果缺口超过瓶口,那肯定是要泄露的。还有一个要注意的是有些瓶子是有防跳塞的,如果压不到位,后面在传送带上运输的过程中,很可能振动跳起来了。
所以如果你胶塞与瓶子匹配的比较好,胶塞高点,低点没什么太大关系,但是需要考虑最差条件,胶塞最大高度不能超过多少,一般采用He追踪的方法来验证。
我记得我们以前这个传感器不是用来检测胶塞高度的,是检测有没有胶塞的,因为这个传感器精度实在是不好,所以一般轧盖设在B级区,如果是设在C级区,就要考虑前面压塞的研究,不能考虑这边检测高度的要求。
3、不管是B+A还是C+A,轧盖前都是视为未密封状态,这也参考2中提到的文献,如果1处密封面有问题,那么2处和3处的密封面可以起到补充密封的作用。起初有可能是微小泄露的,随着轧盖压力的提供,胶塞发生变形,将泄露处堵住,密封可以达到要求,所以轧盖后是完全密封状态。达到A级要求,要考虑一点就是轧盖的时候会有粒子产生,当然现在铝盖的质量和轧盖机真空抽粒子装置已经很不错了,但是还是有可能超标的情况,理论上沉降菌与浮游菌是可以达到动态要求,但是粒子真不一定,所以这就是为什么轧盖需要设置一个单独的区域,即使是放在B级区也要单独设置一个房间的原因。
4、你要知道GMP的主旨是最大限度的降低污染,交叉污染、混淆与差错。对于无菌产品来说,你的任何一步操作都有可能带来污染的风险,对患者造成严重的危害。在进行轧盖设计的时候,你要进行风险评估,评估哪些是风险比较高,哪些是风险比较低的,你要制定什么样的措施去控制。轧盖前要达到的目的是啥,就是要保证你产品的无菌啊,保证患者用药安全啊。
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药生
发表于 2022-10-17 09:14:25 | 显示全部楼层
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药徒
发表于 2022-10-20 22:17:17 来自手机 | 显示全部楼层
117342780 发表于 2022-10-17 09:12
本帖最后由 117342780 于 2022-10-17 09:18 编辑

一个是只保留颈部,一个是保留冠部,结果是如果胶塞的颈部与瓶子的颈部匹配很好,那么泄露能够满足要求。但是需要注意一个问题,就是冻干胶塞是有缺口的,如果缺口超过瓶口,那肯定是要泄露的。还有一个要注意的是有些瓶子是有防跳塞的,如果压不到位,后面在传送带上运输的过程中,很可能振动跳起来了。
所以如果你胶塞与瓶子匹配的比较好,胶塞高点,低点没什么太大关系,但是需要考虑最差条件,胶塞最大高度不能超过多少,一般采用He追踪的方法来验证。
我记得我们以前这个传感器不是用来检测胶塞高度的,是检测有没有胶塞的,因为这个传感器精度实在是不好,所以一般轧盖设在B级区,如果是设在C级区,就要考虑前面压塞的研究,不能考虑这边检测高度的要求。
3、不管是B+A还是C+A,轧盖前都是视为未密封状态,这也参考2中提到的文献,如果1处密封面有问题,那么2处和3处的密封面可以起到补充密封的作用。起初有可能是微小泄露的,随着轧盖压力的提供,胶塞发生变形,将泄露处堵住,密封可以达到要求,所以轧盖后是完全密封状态。达到A级要求,要考虑一点就是轧盖的时候会有粒子产生,当然现在铝盖的质量和轧盖机真空抽粒子装置已经很不错了,但是还是有可能超标的情况,理论上沉降菌与浮游菌是可以达到动态要求,但是粒子真不一定,所以这就是为什么轧盖需要设置一个单独的区域,即使是放在B级区也要单独设置一个房间的原因。
4、你要知道GMP的主旨是最大限度的降低污染,交叉污染、混淆与差错。对于无菌产品来说,你的任何一步操作都有可能带来污染的风险,对患者造成严重的危害。在进行轧盖设计的时候,你要进行风险评估,评估哪些是风险比较高,哪些是风险比较低的,你要制定什么样的措施去控制。轧盖前要达到的目的是啥,就是要保证你产品的无菌啊,保证患者用药安全啊。

老师您好,您的意思是对于欧盟这条要求轧盖B+A环境,就不是必须检测加塞高度吗?

点评

EU GMP 附录1的8.28条,当无菌灌装的无菌产品的轧盖为洁净工艺在A级送风保护下进行时,应在轧盖前剔除无塞或跳塞的西林瓶作报废处理,应有适当确认的自动化方法检测胶塞高度。 包括GMP的实施指南无菌药品 172页 对  详情 回复 发表于 2022-10-21 09:05
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药生
发表于 2022-10-21 09:05:31 | 显示全部楼层
一朵向日葵 发表于 2022-10-20 22:17
老师您好,您的意思是对于欧盟这条要求轧盖B+A环境,就不是必须检测加塞高度吗?

EU GMP 附录1的8.28条,当无菌灌装的无菌产品的轧盖为洁净工艺在A级送风保护下进行时,应在轧盖前剔除无塞或跳塞的西林瓶作报废处理,应有适当确认的自动化方法检测胶塞高度。
包括GMP的实施指南无菌药品 172页 对轧盖两种工艺的控制点中也是要求“洁净工艺”轧盖要监测胶塞缺塞与移塞。
B+A已经是无菌的环境了,从污染控制角度,对胶塞高度检测的要求就没那么高了,可以不用拍照的方式去监测高度。另外是考虑粒子的污染,轧盖的过程可能会产生颗粒进入到你的产品中,所以还是建议要进行高度检测,只是精度不用那么高。
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药徒
发表于 2022-10-21 09:25:22 | 显示全部楼层
学习了,谢谢~~~~~~~~
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药徒
发表于 2022-10-21 10:18:46 来自手机 | 显示全部楼层
117342780 发表于 2022-10-21 09:05
EU GMP 附录1的8.28条,当无菌灌装的无菌产品的轧盖为洁净工艺在A级送风保护下进行时,应在轧盖前剔除无塞或跳塞的西林瓶作报废处理,应有适当确认的自动化方法检测胶塞高度。
包括GMP的实施指南无菌药品 172页 对轧盖两种工艺的控制点中也是要求“洁净工艺”轧盖要监测胶塞缺塞与移塞。
B+A已经是无菌的环境了,从污染控制角度,对胶塞高度检测的要求就没那么高了,可以不用拍照的方式去监测高度。另外是考虑粒子的污染,轧盖的过程可能会产生颗粒进入到你的产品中,所以还是建议要进行高度检测,只是精度不用那么高。

感谢回复解答
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药徒
发表于 2022-12-13 15:02:11 | 显示全部楼层
高度检测是需要进行的一步,但认为胶塞高度并不能代表密封性的好坏,甚至有的公司用轧盖松紧来完全替代密封性的检测也是不合理的。如果说胶塞有缺陷、玻璃瓶有针孔裂痕或者胶塞与容器配合不好一样会造成泄漏问题。建议还是根据USP1207.2中提到的密封性检测方法,如真空衰减法、压力衰减法等进行成品的密封性测试。济南三泉中石 回复。
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